QwenEditUtils2.2 Optional Mask
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模型描述
20251104 更新 QwenEditUtils 2.2
新增 Mask 选项，用于修改特定区域
https://www.runninghub.ai/post/1985595549766365186?inviteCode=rh-v1279
20251104 更新 v5.1
新增 QwenEditAdaptiveLongestEdge，更轻松地调整不同图像的最长边
RH 工作流：
QwenEditUtils 2.0 任意分辨率参考
体验链接：
https://www.runninghub.ai/post/1985595549766365186?inviteCode=rh-v1279
自定义节点：
https://github.com/lrzjason/Comfyui-QwenEditUtils
20251104 更新 v5.0
20250927 更新 v4.0
配合 LoRA 使用 /model/1939453 v2 实现 QwenEditPlus 一致性编辑
20250924 更新 v3.0
更新 QwenEditPlus 插件
移除旧节点。新节点在禁用 vl 重采样时应能兼容旧功能。
20250915 更新 v2.0
彻底解决像素偏移问题。
配合 Consistance Edit LoRA 使用，强度：1 /model/1939453/qwenedit-consistance-edit-lora
插件使用地址：https://github.com/lrzjason/Comfyui-QwenEditUtils
RH 工作流：
QwenEdit Consistance Edit 工作流 v2.0
体验链接：https://www.runninghub.ai/post/1965033238311915522/?inviteCode=rh-v1279
类似 Kontext 工作流。
避免将参考图像编码为 qwenvl。
配合 Consistance Edit LoRA 使用，强度：0.48 /model/1939453/qwenedit-consistance-edit-lora
RH 工作流：
非常有趣，强烈推荐给你！
工作流：QwenEdit Consistance Edit 工作流
体验链接：https://www.runninghub.ai/post/1965033238311915522/?inviteCode=rh-v1279