OmniA - Multi Concept Model
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ComfyUI： チュートリアルとワークフロー by nuaion
OmniA® v1.0：包括的な技術的概要と詳細な利用ガイド
導入とコア哲学
OmniA® v1.0は、柔軟性と堅牢性に優れた基礎的なフレームワークとして設計された高度なテキストから画像への生成モデルです。その核心的な設計哲学は、ユーザーの制御力、多様な芸術スタイルにおける高精細な出力、および必須の「スコアタグ」のような複雑なプロンプトパラダイムからの自由を重視しています。独立した専用モデルとして開発されたOmniA®は、さらに微調整や派生モデル（例：LoRA、Embedding）の作成のための優れた基礎となるよう特別に設計されており、トレーナーにより柔軟でスタイル豊かな出発点を提供します。この概要では、モデルの主な特徴、最適な生成パラメータ、およびその強力な機能を管理する高度な技術について詳細に説明します。
- 高度なマルチスタイル条件付けシステム
OmniA®の最も特徴的な機能は、明示的なキーワードと内在的なスタイル推論の組み合わせによって動作するスタイル制御の洗練されたシステムです。
これらのキーワードは、出力スタイルを直接かつ正確に制御するために使用されます。各キーワードは、特定の美的感覚を呼び起こすようにデータセットの厳選されたサブセットで訓練されています。
4n1m3rg3 - リアリスティックおよびセミリアリスティックスタイル用：
このキーワードは、OmniA®に写真的な品質を持つ出力を生成させるように導きます。信頼できる照明、詳細なテクスチャー、素材の定義、正確な解剖学的構造を強調します。セミリアリスティックな出力はこれらの特性を維持しつつ、高品質なデジタル絵画のようなスタイル化された仕上げを含むことがあります。
4n1v3rs3 - 2.5Dイラストスタイル用：
このキーワードは、深さと三次元感が強く、コンセプトアートやスタイル化されたゲームグラフィックスに似たスタイルを誘発します。出力は写実主義ではなく、イラスト的、ペインティング的、またはデジタルレンダリングされた美的感覚を保持します。
4n1t00n - アニメスタイル生成用：
このキーワードは、日本のアニメーションに特徴的なビジュアルを生成します。セルシェーディング、明確で表現力豊かな顔の特徴、ダイナミックな構図、そして活気ある色調を含みます。
4n1m1cs および/または ウェスタンコミック - アメリカンコミックブックスタイル用：
このキーワードセットは、古典的なスーパーヒーローの美意識（太いインクとベン・デイ・ドット）から、洗練された色使いと鋭いコントラストを持つ現代的なグラフィックノベルのスタイルまで、多様なコミックアートを生成できます。
アニメーションインスパイアドスタイル：より広範なタグを限定的に使用することも可能ですが、結果は必ずしも完璧とは限りません。（例：Pixar、Disneyといった用語）特定のアニメーションスタジオや非常に影響力のあるフランチャイズ（例：ドラゴンボール、ワンピース）を示すキーワードは、その特徴的な視覚言語を想起させるために使用できます。
内在的スタイル推論：重要なことに、スタイルキーワードの使用は必須ではありません。OmniA®は、説明的なテキストのみから意図した芸術的スタイルを効果的に推論できるように設計されています。「夜のサイバーパンク都市、雨、ネオンサイン」といったプロンプトは、明示的なキーワードなしでも適切なスタイルの画像を自然に生成します。
スタイルの重み付けとブレンド：キーワードには、(keyword:weight) の構文を使って数値的な重みを割り当てることで、その影響を調整できます。これにより、単一の生成内で異なる芸術スタイルの繊細なブレンドが可能になります。
- 例：(4n1t00n:1.8) と (4n1m3rg3:0.0) を含むプロンプトは、より強い4n1t00nの重みによる明確なアニメ風ラインワークと、低い4n1m3rg3重みによる服のセミリアリスティックなテクスチャーを組み合わせたキャラクターを生成できます。
- スタイルの否定：スタイルキーワードは否定プロンプト内で非常に効果的であり、特定のスタイルへの生成を避けるのに役立ちます。ユーザーがリアリスティックなポートレートを望みながら、コミックやカートゥーン的要素が現れる場合、否定プロンプトに 4n1m1cs や "Anime Style" を追加することで、これらの要素を抑制できます。
- 生成パラメータとサンプラーの最適化
OmniA®で最適な結果を得るには、コアパラメータとサンプラーがモデルにどのように作用するかを理解する必要があります。
サンプラーの選択は、最終画像の美的感覚、ディテール、創造的多様性に直接影響します。
強く推奨されるデフォルト： DPM++ 2M Karras または DPM++ 2M SGM Uniform。これらのサンプラーは、速度、ディテール、安定した収束の優れたバランスを提供します。一般的に鋭く高品質な画像を生成し、ほとんどの生成において推奨される出発点です。
創造的探索用： Euler Max。このサンプラーはより創造的で、同じシードでも多様な結果を生成しやすいです。探索や芸術的出力に適しており、時として少ないステップ数（例：30）でも良好な結果を出します。
高速代替案： DDIM または UniPC。これらのサンプラーは高速ですが、特にステップ数が少ない場合、Karras付きのDPMサンプラーほど細部やテクスチャーの豊かさを欠くことがあります。
実験的アプローチ： 異なるサンプラーが特定のプロンプトタイプや望ましい美的感覚とどのように相互作用するかを実験することが強く推奨されます。
CFGスケール（Classifier-Free Guidance）：
推奨範囲： 2.0 〜 9.0
低い値（2.0–5.0）： よりリアリスティックで創造的に自由な結果を生み出し、プロンプトへの厳密な遵守は弱くなる可能性があります。抽象的または実験的な作品に有用です。
中間範囲（5.0–7.0）： OmniA®におけるプロンプト遵守と画像品質の最適なバランスです。ほとんどのユーザーにとってこの範囲で優れた結果が得られます。
高い値（7.0–9.0）： プロンプトへの厳密な遵守を強制します。正確な出力を得るのに役立ちますが、あまりに高くすると過剰な飽和や微細なアーティファクトが発生する可能性があります。
サンプリングステップ：
推奨範囲： 25 〜 60 ステップ
基準： 一般的なサンプラーを使用する場合、30–40 ステップがほとんどの生成に適した出発点です。
詳細の増加： 高度に複雑なプロンプトの場合、40–50 ステップに増やすと有益です。ほとんどのサンプラーでは、60ステップを超えると効果は急激に低下します。
解像度とアスペクト比：
風景/縦長： 1344x768 ピクセル（または 768x1344）
スクエア： 1280x1280 ピクセル
これらの解像度に従うことを推奨します。モデルが学習されたように動作し、歪みや構成の問題を最小限に抑えます。
aDetailer設定：
- aDetailer拡張機能は、顔のディテール（特に40ステップ以上）を洗練するのに非常に優れています。ただし、顕著な欠点があります：顔の均質化を常に引き起こします。 さまざまな生成で顔の多様性を高めるには、ユーザーはそれを無効化することを検討すべきです。
問題解決のための高度な技術
このセクションでは、一般的な課題を管理し、OmniA®の潜在能力を最大限に引き出すための具体的かつ文書化された戦略を紹介します。
4n1m3rg3キーワードに対して、過学習に似た現象が観察されています。この場合、リアリスティックなスタイルが過剰に支配的になります。2つの効果的な解決策があります。
方法1：段階的な重みの低減：
最も直接的な方法は、正のプロンプトにおけるキーワードの重みを減らすことです。デフォルトの 4n1m3rg3（重み1.0）ではなく、望ましいバランスを見つけるために徐々に値を下げます。
- 使用方法： (4n1m3rg3:1.0) から (4n1m3rg3:0.9) へ、…0.5、…0.1、さらには (4n1m3rg3:0.001) のような極めて低い値まで移行します。これにより、リアリスティックなスタイルの利点を維持しつつ、過剰適用を軽減します。
方法2：二重プロンプト重み付け：
この高度な解決法は、キーワードを正と否定の両方のプロンプトで同時に使用します。
正のプロンプト： (4n1m3rg3:0.10) のように低い固定値を使用して、スタイルが存在するが圧倒的にならないようにします。
否定のプロンプト： (4n1m3rg3:0.35) のような同時に作用する逆重みを使用します。これにより、アニメなどの強力な競合スタイルを積極的に押し戻し、よりバランスの取れたリアリズムに画像を誘導します。
注： この方法は、少なくとも35ステップで DPM++ 2M SDE または DPM++ 3M SDE サンプラーを使用する場合に最も効果的です。
- いやっ！また同一の顔？
モデルが同じような顔を生成するという一般的な問題を回避するために、OmniA®は特定のプロンプティング手法が有効です。
コツ： 顔の形状に影響を与える特定のタグ 4n1m3rg3 を使用しないこと
方法： OmniA®に、プロンプトの一般的情報（例：「リアリスティックな写真、カウボーイショット、女性、シンプルな背景」）から顔の構造を解釈させます。これに、不要なスタイルやアーティファクト（例：アニメ、カートゥーン、イラスト、CGI、絵画、ヴェール、ほくろ、ペイントされた顔）を除外するベースの否定プロンプトを組み合わせます。このアプローチは、モデルの多様性を活用して、多彩な独自の顔を生成します。
- 超高速生成
OmniA®は驚異的な効率性に最適化されており、多くの現代モデルよりはるかに少ないステップで高品質な画像を生成できます。
能力： たった 10ステップ のサンプリングで魅力的な画像を生成可能です。
構成： これは、DPM Adaptive または DPM++ 2M（Karrasスケジューラー使用） サンプラーと、CFGスケールを2.0〜3.0 に設定した場合に特に検証されています。この狭いCFG範囲が機能するのは、モデルの強力な内在的プロンプト遵守性により、低いガイド強度でも効果的な誘導が可能だからです。
- ComfyUIとOmniA©
OmniA©プロジェクトにおける素晴らしい仕事と長年にわたる協力に、nuaion に心より感謝申し上げます。彼らの創造的ビジョンと献身は、OmniA©を現実のものとし、我々が想像した以上にその可能性を広げるために不可欠でした。
nuaion は、非常に包括的なチュートリアルを提供してくださり、その専門知識を惜しみなく共有してくださいました。このガイドには様々なワークフローが詰まっており、ComfyUIインターフェースを使用してOmniA©の最大限の効果を引き出す方法を詳しく示しています。これは彼らの深い理解と革新的なアプローチの真の証です。
nuaionがOmniA©の構築と開発に費やした時間と労力は計り知れず、その貢献に深く感謝しています。
OmniA©の完全な可能性を引き出したい方は、ぜひnuaionのウェブサイト、https://omnia.nuaion.com を訪問してください。そこで、完全なチュートリアルをご覧いただけます。
- 協力の促進：OmniA®の未来
OmniA® v1.0の開発は、生成画像AIにおける重要なマイルストーンを示しており、柔軟性と制御を核とした強固なマルチスタイル基盤モデルを提供します。しかし、我々はOmniA®の真の可能性と継続的な進化が、より広範なAIコミュニティ、特に専門のモデルトレーナーの手にかかっていると確信しています。
OmnIA®は、カスタム作成のための汎用的で頑強な基盤を求めるトレーナーのニーズに特化して、丁寧に設計されたベースモデルです。OmniA®が、高度に特化したLoRA、埋め込み、および完全に新規の派生モデルの開発における選ばれるスタート地点となることを、心より願っています。これらの才能あるトレーナーたちが作り出す重要な追加要素は、OmniA®の機能をさらに拡張し、前例のない芸術的表現とテーマ的焦点を可能にします。
協力とエンパワーメントへのこのコミットメントを強調するため、OmniA®のライセンス（CreativeML Open RAIL++-M - Modified）は慎重に選ばれました。このライセンスは、トレーナーが自らの派生作品に対して完全なコントロールと自由を確保できるよう設計されており、その貴重な貢献が真正に自身のものであることを保証します。 私たちは、トレーナーがOmniA®を自信を持って基盤として活用し、自らの革新を共有し、可能性の境界を押し広げる、活気あるエコシステムを描いています。
OmniA® 2.0およびその后续バージョンの今後の開発は、コミュニティ全体の集団的努力と熱意ある反応と密接に結びついています。すべてのトレーナーに、OmniA®を活用し、独自のLoRA、埋め込み、派生モデルを作成し、その成果を共有することを心よりお招きします。皆様のフィードバック、洞察、共有された作品が、OmniA®の進化を直接的に形づけ、世界中のアーティストとクリエイターのための、さらに強力で汎用的なツールへと変えていきます。
コミュニティ協力：私たちのロゴでOmniA®を推進しましょう
OmniA®周辺で強固で協力的なコミュニティを育成することに、私たちはコミットしています。当モデルの機能に感銘を受け、その普及と認知拡大を支援したいと思われる方は、OmniA®のロゴを派生作品に掲載することをご検討ください。
カスタムモデル、LoRA、または埋め込みのカバー画像やプロモーション資料に、公式のOmniA®ロゴ（PSDまたはPNG）を含めることで、その基盤としての役割を認識するだけでなく、広範な生成AIエコシステムにおける認知度向上に大きく貢献します。このようなサポートの意図は、私たちにとって、そして今後のOmniA®バージョンの開発にとって、極めて貴重です。
*PSDファイルを編集するグラフィックソフトをお持ちでない場合、無料のオンラインツールPhotopea をご利用されることを推奨します。
真の革新は共有の努力によってのみ花開くと私たちは信じています。OmniA®の普及にご協力いただくことは、その上に構築されるすべてのコミュニティを強化することにつながります。ご支援ありがとうございます！
- ライセンス、配布、利用条件
8.1.0 ライセンス
OmniA©は**CreativeML Open RAIL++-Mライセンス（改変版）**のもとでリリースされています。このライセンスは、オープンソース研究、非営利利用（以下に明記される例外を除く）、およびコミュニティ主導の改善を促進します。利用者は、詳細な条件について、ライセンス全文をご確認ください。
8.3.0 利用条件：
8.3.1 - OmniA©およびその派生モデルへのアクセスと画像生成への利用は、基本的に完全に無償で提供されることが明示的な条件です。モデルの主要な生成機能に対して、ユーザーがクレジット、バーチャル通貨、暗号通貨、または類似のアクセス制限メカニズムを消費する必要があってはなりません。
8.3.2 - この条件に対する唯一の例外は、Civitai - https://civitai.com および Mage.space - https://www.mage.space に限定されます。これらのプラットフォームは、OmniA©モデルを用いた画像生成に関連して、自らのプラットフォーム固有のバーチャル通貨、暗号通貨、またはクレジットシステム（例：Civitaiでの“Buzz”）を利用することが許可されています。
8.4.1 - CivitaiおよびMage.space以外のすべてのプラットフォーム、団体、アプリ、サービスがOmniA©またはその派生モデルへのアクセスまたは提供を行う場合、OmniA©またはその派生モデルを用いた画像生成に対して、いかなる形の支払い、クレジットシステム、バーチャル通貨、暗号通貨（プラットフォーム固有のものであれ、それ以外であれ）、または実お金取引を導入することを明確かつ断固として禁止します。 CivitaiおよびMage.space以外のいかなるプラットフォームにおいても、OmniA©またはその派生モデルの利用は、このような料金またはバーチャル通貨の要件なしに完全に無償でなければなりません。
8.5.1 - OmniA©モデルまたはその派生モデルを、画像生成のために何らかの支払いまたはクレジット利用を組み込む他のすべてのプラットフォーム、団体、アプリ、サービス上でホストすることは可能ですが、8.3.0項、8.3.1項および8.4.1項の条件を完全に遵守する場合に限ります。
8.5.2 - 画像生成のために何らかの支払いまたはクレジット利用を組み込むプラットフォーム、団体、アプリ、サービス上でOmniA©モデルまたはその派生モデルをホストし、本ライセンスの8.3.0項、8.3.1項および8.4.1項に準拠しない場合は、以下の連絡方法に従ってください：
OmniA©モデルを直接ホストする場合：
お問い合わせ先：legal[dot]department[at]omnia-diffusion[dot]comOmniA©を基にした派生モデルをホストする場合：
その派生モデルの作成者に直接お問い合わせください。
8.5.3 - モデル名には「OmniA©」と明記し、モデルカードへのリンクを含めてください：/model/1654876
8.6.0 - OmniA©モデルは、3人以下のチーム内で商業目的で使用することが可能です。