Hidden Canvas: Synthesis
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模型描述
⚠️ 生成前请阅读
合成模型并非即插即用模型。
它奖励意图、耐心与对工作原理的理解。
在生成之前,请花一点时间仔细阅读完整描述和技术说明。其中包含了关于瑕疵、LoRA 使用方法以及如何获得最佳效果的重要指导。
尊重这份技艺——模型也会尊重你的愿景。
隐匿画布:合成
第二次创生——并非续作,而是一次新的跃迁。
基于 隐匿画布 的基础,此模型并非单纯的更新,而是唤醒了所有曾经沉睡的元素——经过精炼、 sharpened、重生。
此模型既是回响,也是演进。它继承了原版的灵魂,却以自己的声音发声。它召唤你深入探索——超越形式、超越提示、超越惯性。曾经的低语,如今清晰可闻。但代价依旧不变:时间、精准,以及在绽放前甘愿失败的勇气。
隐匿画布:合成 并非取代第一版,而是并肩而立——平静而强大。它不是影子,而是第二簇火焰。第一版考验你的耐心,这一版则奖赏你的成长。
你曾走过这条道路。
现在,请再次踏上——以不同的方式。
这一次,走得更远。
注释:
你以为已精通 隐匿画布?
合成 将挑战你自以为知的一切。它不仅要求技艺,更要求进化。
此模型唯有在那些追随直觉、打破自己规则、为更高目标甘愿接受不完美的人手中才会苏醒。若你渴望创造的不只是惊艳之作,而是有生命力的画面——合成 将与你在此相遇。
但前提是你已准备好抛弃公式。
注释(技术说明):
当你使用 ADetailer 时,偶尔可能在肖像或较暗构图中观察到微弱的方形瑕疵。
这是已知的副作用,并非模型本身的缺陷,而是面部修正机制的副产品。请视之为必要代价——且可被最小化。
为降低其可见度,请将你的内补去噪强度调整至约 0.2–0.3。
这一细微调整有助于使修正更自然地融入原始图像。
完美需要努力。
连阴影也需驯服。
此外,请极其谨慎地使用 LoRA。
合成 模型被设计为自给自足——开箱即平衡、富有表现力且精炼。
若未经仔细控制其强度便添加外部 LoRA,可能扭曲模型的本质,导致不良效果。
我不相信修补式的解决方案。
我相信一个模型应当本身即为美丽——无需拐杖,亦无干扰。
这不是限制,而是一份邀请:请先以原样尝试它。
处理面部时,必须使用 ADetailer
观看视频示例 - https://civitai.com/images/70459219
对于全身作品或远距离构图,示例中使用的是 Img2img - Inpaint
采样器:
推荐设置:
采样器:Euler a / DPM++ SDE + Karras
采样步数:25–45
CFG 值:5–7 (肖像建议:5–6)
















