stylist

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モデル説明

スタイルベースモデルはファッションデザイン用に設計され、ベータ版であるため、多くの機能が実装されています。このモデルは、さまざまなスタイルや衣料品デザイナーを生成し、写真級のモデルを高密度なディテールで非常に自然に作成できます。

このモデルにはすでにVAEが組み込まれています。このテンプレートには、Adetailer 拡張機能が必要です。

手のエラーを修正するには、この拡張機能をご使用ください:

https://github.com/licyk/advanced_euler_sampler_extension

このテンプレートを、CivitAI内外で配布したり、どこかに投稿したり、ホスティングサービスやサードパーティの画像生成サービスに掲載することは厳禁です。個人利用のみ可能であり、私の許可なくこれを配布した人物がいれば、直ちに報告してください。

解像度設定:

標準解像度:512 x 768、768 x 512、540 x 960、1024 x 1024

解像度:540x540 → 「Hires.fix」チェックボックスを有効にすると、結果は1080 x 1080ピクセル

解像度:540x960 → 「Hires.fix」チェックボックスを有効にすると、結果は1080 x 1920ピクセル

生成には以下の推奨設定をご使用ください:

サンプリング方法:Euler_Max
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:Euler_Smea_Dy
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:Euler a
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:LCM
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DDPM Karras
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 2M Karras
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ SDE Karras
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 2M SDE Karras
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 2M SDE Exponential
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 3M SDE
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 3M SDE Karras
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

サンプリング方法:DPM++ 3M SDE Exponential
サンプリングステップ:20-30
CFGスケール:2.0 - 7.0
Skip clip:1-2

推奨ネガティブプロンプト:

(CyberRealistic_Negative-neg)、カートゥーン、ペイント、イラストレーション、(グレースケール:1.4)、(最悪の品質:2)、(低品質:2)、(標準品質:2)、醜い、太り気味、3Dレンダリング、アジア人

お好みのネガティブプロンプトを自由に使用し、カスタマイズしてください。

このモデルで生成された画像

画像が見つかりません。