forge
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关于此版本
模型描述
Forge 基础模型是一个包含多种混合、调整和数据增强的模型,经过精细优化,具有三个特点:可生成半写实、写实和照片级图像,并具备高对比度、高锐度以及非常强烈且鲜艳的色彩。
VAE 已包含在模型中!
使用以下扩展修复手部错误:
https://github.com/licyk/advanced_euler_sampler_extension
严格禁止在 CivitAI 内外分发此模板,或将其发布于任何地方、托管服务或第三方图像生成服务。本模型仅供个人使用。如您知悉有人未经我许可分发,请立即举报。
分辨率设置:
标准分辨率:512 x 768、768 x 512、540 x 960 和 1024 x 1024
分辨率:540x540,勾选 Hires.fix 选项,输出结果为 1080 x 1080 像素
分辨率:540x960,勾选 Hires.fix 选项,输出结果为 1080 x 1920 像素
推荐生成设置:
采样方法:Euler_Max
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:Euler_Smea_Dy
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:Euler a
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:LCM
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DDPM Karras
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 2M Karras
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ SDE Karras
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 2M SDE Karras
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 2M SDE Exponential
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 3M SDE
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 3M SDE Karras
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
采样方法:DPM++ 3M SDE Exponential
采样步数:20-30
CFG 缩放:2.0 - 7.0
跳过 Clip:1-2
推荐的负面提示词:
(CyberRealistic_Negative-neg), 卡通, 绘画, 插画, (灰度:1.4), (最差质量:2), (低质量:2), (普通质量:2), 丑陋, 肥胖, 3D 渲染, 亚洲人;
您可以自由使用您选择的负面提示词并进行自定义。




















