Isabella Bonacci [IL]
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模型描述
LoRA权重:0.9 - 1
此角色为原创角色(OC)
我的图像生成设置:
采样方法:EULER A
调度类型:EXPONENTIAL
步数:30
高分辨率修复:4x-UltraSharp
高分辨率步数:15
去噪强度:0.45
放大倍数:1.4
CFG尺度(高分辨率和普通):5
Adetailer:face_yolov8m.pt
LoRA权重:0.9 - 1
此角色为原创角色(OC)
我的图像生成设置:
采样方法:EULER A
调度类型:EXPONENTIAL
步数:30
高分辨率修复:4x-UltraSharp
高分辨率步数:15
去噪强度:0.45
放大倍数:1.4
CFG尺度(高分辨率和普通):5
Adetailer:face_yolov8m.pt