斥罪 penance

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模型描述

这个角色不太好炼,那套盔甲只有在非常贴合或过度贴合的情况下才能较好还原。因此这个Loha可能会有过拟合的情况,建议权重控制在0.8以下。底模是NAI 7G版。

所有出图均使用DPM ADAPTIVE生成,最近发现直接生成高清修复后的图像时,DPM ADAPTIVE几乎算得上又快又好,自适应步数非常省心。

此模型生成的图像

未找到图像。