stylist

该风格基础模型专为时尚设计而开发，作为测试版模型，具备许多待实现的功能，能够生成多种风格与服装设计，并创建细节丰富、极为自然的摄影模特。

此模型已内置VAE。该模板需要安装【Adetailer】扩展：https://github.com/Bing-su/adetailer

使用以下扩展修复手部错误：

https://github.com/licyk/advanced_euler_sampler_extension

严禁在CivitAI内部或外部分发本模板，或将其发布于任何平台、托管服务或第三方图像生成服务。仅限个人使用。若您知悉有人未经我许可分发本模板，请立即举报。

分辨率设置：

标准分辨率：512 x 768、768 x 512、540 x 960 和 1024 x 1024

• 分辨率：540x540，勾选“Hires.fix”复选框，输出结果为 1080 x 1080 像素
• 分辨率：540x960，勾选“Hires.fix”复选框，输出结果为 1080 x 1920 像素

推荐生成设置：

采样方法：Euler_Max
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：Euler_Smea_Dy
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：Euler a
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：LCM
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DDPM Karras
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 2M Karras
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ SDE Karras
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 2M SDE Karras
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 2M SDE Exponential
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 3M SDE
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 3M SDE Karras
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

采样方法：DPM++ 3M SDE Exponential
采样步数：20-30
CFG缩放：2.0 - 7.0
跳过CLIP：1-2

推荐负面提示词：
(CyberRealistic_Negative-neg), 卡通, 绘画, 插图, (灰度:1.4), (最差画质:2), (低画质:2), (普通画质:2), 丑陋, 肥胖, 3D渲染, 亚洲人;

您可以自由使用自定义的负面提示词进行调整。