EKKIVOK - STYLE MIMIC PRO ++

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模型描述

为何使用此工作流?
Style Mimic Pro ++ 旨在让你完全掌控精细的风格化处理,轻松模仿各种美学特征,同时保持真实性。凭借内置的水印功能、风格化选项和先进的颗粒注入系统,此工作流专为希望为品牌、广告或数字艺术创作专业风格化图像的内容创作者打造。你可以将其视为增强版的 IMG2IMG 流程,提供从原始图像到最终输出的完全控制。

它能做什么?
此工作流结合了高精度提示编码与风格化输出,提供可调整的文本提示和专用颗粒注入功能。通过两个独立的胶片颗粒注入器,增强真实感与风格深度。两步上采样确保高清结果。双重水印设置还提供内容安全性,非常适合独家艺术作品发布。

使用的节点

  • 提示生成:BilboXPhotoPrompt 和 CLIPTextEncodeFlux 节点,用于高级风格化提示。
  • 颗粒与噪点控制:BetterFilmGrain 节点向图像注入自定义颗粒,模拟真实胶片纹理。
  • 细节处理模块:FaceDetailer 用于优化面部表情,UltralyticsDetectorProvider 用于特定区域检测。
  • 上采样器:UltimateSDUpscale 节点,在不损失细节的前提下提升图像分辨率。
  • 水印节点: Invisible 和 Visible 水印由 LayerUtility: AddBlindWaterMark 和 Ghost Watermark Verificator 管理。

模型与 LoRAs

  • UNET 和 VAE 模型,搭配专用的 LoRA 堆栈,实现精细风格化。
  • 使用如 flux1DevFp8_v10.safetensors 等模型,确保在上采样过程中优化细节保留。

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