Res4Lyf V2V Repaint
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模型描述
最近我深入研究了 RES4LYF 采样器。无采样/混合采样器以及 sigma 范围控制的使用非常有趣,但我没看到太多相关讨论,所以决定分享一下。这些是 v2v 重绘,未使用 ControlNet 或 VACE。警告:运行这些需要一些时间,但能给予你极大的控制力。
我仍在摸索全部细节,但大致如下:在工作流中,无采样节点会在无采样过程中“避开”高于 0.6 的噪点,保留所有帧中的基础噪点结构。你可以将这个阈值提高到约 0.875,但会变得略微依赖种子。之后,我会用我的新提示重新采样。
有趣的部分在于混合采样器的作用。
AbNorsett 似乎对较高层级的噪点有效,能消除摇摄/弧线镜头中抖动的树木,但可能会损失面部细节。
PEC 更适合处理精细细节,在调度器范围内表现相当均衡,能清理纹理和色彩过渡,同时不破坏细节。
Lawson 我还没完全弄明白,据说它影响光照和鲜艳度,但更难掌握。
我还没自己配置过,但我推测这可以像后期制作工作室一样设置:稳定性、重新打光、细化细节。
最后一点,当你在使用 Wan2 并将 shift 值设为 2-3 时,可以通过在无采样和重新采样之间切换调度器,大幅减少噪点或闪烁。这能在不改变视频结构的前提下降低噪点——每段视频略有不同,但有时值得这样做,以便从原本表现平平的视频中提取出真正出色的内容。
